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第一章 半導(dǎo)體、光伏產(chǎn)業(yè)用高純硅烷概述16
1.1 高純硅烷簡(jiǎn)介16
1.2 高純硅烷的主要基本性能與質(zhì)量指標(biāo)17
1.3 高純硅烷的主要應(yīng)用領(lǐng)域18
1.4 高純硅烷在發(fā)展我國(guó)電子工業(yè)中的重要作用19
第二章 電子特種氣體及其應(yīng)用市場(chǎng)20
2.1 電子特種氣體概述20
2.2 電子特種氣體制造中的主要技術(shù)方面21
2.3 電子特種氣體的純凈度要求23
2.4 電子特種氣體產(chǎn)品市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的焦點(diǎn)問(wèn)題25
2.4.1 對(duì)電子特種氣體雜質(zhì)、純度要求的問(wèn)題25
2.4.2 氣體配送及供應(yīng)問(wèn)題26
2.4.3 儲(chǔ)存、使用中的安全性問(wèn)題27
2.4.4 成本性問(wèn)題28
2.5 國(guó)內(nèi)外電子特種氣體行業(yè)發(fā)展概述29
2.5.1 境外電子特種氣體生產(chǎn)與市場(chǎng)情況29
2.5.2 國(guó)內(nèi)電子特種氣體行業(yè)及其發(fā)展30
第三章 高純硅烷氣體性能指標(biāo)及制備、凈化的工藝路線33
3.1 高純硅烷的性能指標(biāo)33
3.2 高純硅烷工業(yè)化制備的典型工藝路線34
3.2.1 制備工藝法概述34
3.2.2 硅化鎂合金法制備硅烷34
3.2.2.1 工藝過(guò)程34
3.2.2.2 主要反應(yīng)36
3.2.2.3 工藝特點(diǎn)36
3.2.2.4 工藝法存在的問(wèn)題37
3.2.3 三氯氫硅還原法制備硅烷37
3.2.3.1 工藝過(guò)程37
3.2.3.2 主要反應(yīng)39
3.2.3.3 工藝特點(diǎn)39
3.2.3.4 工藝法存在的問(wèn)題40
3.2.4 四氟化硅還原法制備硅烷41
3.2.4.1 工藝過(guò)程41
3.2.4.2 主要反應(yīng)41
3.2.4.3 工藝特點(diǎn)41
3.2.4.4 工藝法存在的問(wèn)題42
3.2.5 氯硅烷歧化法制備硅烷42
3.2.5.1 工藝過(guò)程42
3.2.5.2 主要反應(yīng)42
3.2.5.3 工藝特點(diǎn)42
3.2.5.4 工藝法存在的問(wèn)題43
3.2.6 烷氧基硅烷歧化法43
3.2.6.1 工藝過(guò)程43
3.2.6.2 主要反應(yīng)44
3.2.6.3 工藝特點(diǎn)44
3.2.6.4 工藝法存在的問(wèn)題44
3.3 高純硅烷氣體的凈化工藝路線45
3.3.1 氣體的凈化方法概述45
3.3.2 高純硅烷的凈化過(guò)程45
3.4 工業(yè)高純硅烷氣體的包裝及貯運(yùn)46
第四章 國(guó)內(nèi)外高純硅烷生產(chǎn)與主要企業(yè)現(xiàn)況47
4.1 世界高純硅烷產(chǎn)銷(xiāo)、市場(chǎng)規(guī)模的概況47
4.2 國(guó)外高純硅烷主要生產(chǎn)企業(yè)產(chǎn)銷(xiāo)情況47
4.3 國(guó)外高純硅烷主要生產(chǎn)企業(yè)簡(jiǎn)況48
4.3.1 REC Silicon公司48
4.3.2 Dowcorning公司51
4.3.3 SODIFF新素材有限公司54
4.3.4 MEMC公司57
4.3.5 Air Liquid公司60
4.3.6 日本電氣工業(yè)公司64
4.3.7 大陽(yáng)日酸公司67
4.3.8 Evonik Industries公司70
4.4 國(guó)內(nèi)硅烷業(yè)的發(fā)展概述72
4.4.1 我國(guó)高純硅烷業(yè)發(fā)展的概述72
4.4.2 我國(guó)硅烷研發(fā)、生產(chǎn)的歷史74
4.5 國(guó)內(nèi)高純硅烷生產(chǎn)企業(yè)現(xiàn)況75
4.5.1 國(guó)內(nèi)高純硅烷生產(chǎn)企業(yè)總述75
4.5.2 浙江中寧硅業(yè)有限公司75
4.5.3 浙江賽林硅業(yè)有限公司81
4.5.4 滁州市硅谷特種氣體有限公司88
4.5.5 六九硅業(yè)有限公司95
4.5.6 浙江金華美晶硅電子有限公司102
4.5.7 黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司108
4.5.8 深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司115
第五章 高純硅烷主要應(yīng)用領(lǐng)域的概述122
5.1 高純硅烷在集成電路中的應(yīng)用122
5.1.1 集成電路芯片制程122
5.1.2 化學(xué)氣相沉積和氣體應(yīng)用122
5.1.3 高純硅烷在化學(xué)氣相沉積中作為氣源形成的薄膜131
5.2 高純硅烷在薄膜硅太陽(yáng)電池中的應(yīng)用132
5.2.1 非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池132
5.2.2 Si薄膜的材料特性132
5.2.3 非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池制作工藝及高純硅烷其應(yīng)用136
5.3 高純硅烷在液晶顯示器中的應(yīng)用138
5.3 高純硅烷在液晶顯示器中的應(yīng)用139
5.4 高純硅烷在其它領(lǐng)域的應(yīng)用139
5.4.1 在特種玻璃制造中的應(yīng)用139
5.4.2 在電子部件制造中的應(yīng)用140
5.4.3 在化合物半導(dǎo)體材料制造中的應(yīng)用140
5.5 高純硅烷在電子信息產(chǎn)品中應(yīng)用市場(chǎng)需求量的測(cè)算141
第六章 高純硅烷主要應(yīng)用市場(chǎng)之一—集成電路產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢(shì)143
6.1 世界半導(dǎo)體硅片生產(chǎn)與市場(chǎng)發(fā)展143
6.1.1 世界半導(dǎo)體生產(chǎn)的現(xiàn)況143
6.1.2 世界半導(dǎo)體硅片的生產(chǎn)狀況145
6.2 我國(guó)半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)與市場(chǎng)現(xiàn)況與發(fā)展145
6.2.1 我國(guó)集成電路市場(chǎng)、產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀145
6.2.2 我國(guó)集成電路晶圓制造業(yè)情況153
第七章 高純硅烷主要應(yīng)用市場(chǎng)之二 —薄膜太陽(yáng)能電池產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢(shì)154
7.1 國(guó)內(nèi)外光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展154
7.1.1 世界光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展154
7.1.2 我國(guó)光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展環(huán)境與現(xiàn)況155
7.2 薄膜太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)與市場(chǎng)163
7.2.1 薄膜太陽(yáng)能電池特點(diǎn)及品種163
7.2.2 薄膜太陽(yáng)能電池未來(lái)市場(chǎng)發(fā)展前景171
7.2.3 薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)及在光伏市場(chǎng)上的份額變化174
7.3 國(guó)內(nèi)外薄膜太陽(yáng)能電池的主要生產(chǎn)企業(yè)175
第八章 高純硅烷主要應(yīng)用市場(chǎng)之三 —液晶顯示器產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢(shì)180
8.1 世界平板顯示器產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)況180
8.2 我國(guó)平板顯示器產(chǎn)業(yè)現(xiàn)況與未來(lái)發(fā)展預(yù)測(cè)181
8.2.1 我國(guó)液晶顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展概述181
8.2.2 我國(guó)LCD面板生產(chǎn)現(xiàn)況與未來(lái)幾年發(fā)展預(yù)測(cè)183
8.2.3 我國(guó)發(fā)展平板顯示產(chǎn)業(yè)的相關(guān)政策及未來(lái)發(fā)展的預(yù)測(cè)、分析185
 
 
圖表目錄
圖表 1 硅烷性能比較18
圖表 2 氣體按其特性分類(lèi)圖21
圖表 3 雜質(zhì)對(duì)硅低溫選擇性外延沉積的影響24
圖表 4 露點(diǎn)與集成度的關(guān)系25
圖表 5 微粒直徑與集成度的關(guān)系25
圖表 6 特殊氣體供應(yīng)流程圖27
圖表 7 硅烷的性能指標(biāo)33
圖表 8 氫化鋰還原三氯氫硅制備硅烷工藝流程圖38
圖表 9 2018-2021年世界高純硅烷產(chǎn)銷(xiāo)分析47
圖表 10 2018-2021年世界高純硅烷市場(chǎng)規(guī)模分析47
圖表 11 2021年國(guó)外高純硅烷主要生產(chǎn)企業(yè)產(chǎn)銷(xiāo)情況47
圖表 12  近4年REC Silicon公司   流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況48
圖表 13  近4年REC Silicon公司   總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況49
圖表 14  近4年REC Silicon公司   銷(xiāo)售毛利率變化情況49
圖表 15  近4年REC Silicon公司   資產(chǎn)負(fù)債率變化情況49
圖表 16  近4年REC Silicon公司   產(chǎn)權(quán)比率變化情況50
圖表 17  近4年REC Silicon公司   固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況50
圖表 18  近4年Dowcorning公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況52
圖表 19  近4年Dowcorning公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況52
圖表 20  近4年Dowcorning公司銷(xiāo)售毛利率變化情況52
圖表 21  近4年Dowcorning公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況53
圖表 22  近4年Dowcorning公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況53
圖表 23  近4年Dowcorning公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況54
圖表 24  近4年SODIFF新素材有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況55
圖表 25  近4年SODIFF新素材有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況55
圖表 26  近4年SODIFF新素材有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況55
圖表 27  近4年SODIFF新素材有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況56
圖表 28  近4年SODIFF新素材有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況56
圖表 29  近4年SODIFF新素材有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況57
圖表 30  近4年MEMC公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況58
圖表 31  近4年MEMC公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況58
圖表 32  近4年MEMC公司銷(xiāo)售毛利率變化情況59
圖表 33  近4年MEMC公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況59
圖表 34  近4年MEMC公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況59
圖表 35  近4年MEMC公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況60
圖表 36  近4年Air Liquid公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況61
圖表 37  近4年Air Liquid公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況62
圖表 38  近4年Air Liquid公司銷(xiāo)售毛利率變化情況62
圖表 39  近4年Air Liquid公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況63
圖表 40  近4年Air Liquid公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況63
圖表 41  近4年Air Liquid公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況63
圖表 42  近4年日本電氣工業(yè)公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況64
圖表 43  近4年日本電氣工業(yè)公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況65
圖表 44  近4年日本電氣工業(yè)公司銷(xiāo)售毛利率變化情況65
圖表 45  近4年日本電氣工業(yè)公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況65
圖表 46  近4年日本電氣工業(yè)公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況66
圖表 47  近4年日本電氣工業(yè)公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況66
圖表 48  近4年大陽(yáng)日酸公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況67
圖表 49  近4年大陽(yáng)日酸公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況67
圖表 50  近4年大陽(yáng)日酸公司銷(xiāo)售毛利率變化情況68
圖表 51  近4年大陽(yáng)日酸公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況68
圖表 52  近4年大陽(yáng)日酸公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況69
圖表 53  近4年大陽(yáng)日酸公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況69
圖表 54  近4年Evonik Industries公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況70
圖表 55  近4年Evonik Industries公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況70
圖表 56  近4年Evonik Industries公司銷(xiāo)售毛利率變化情況71
圖表 57  近4年Evonik Industries公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況71
圖表 58  近4年Evonik Industries公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況72
圖表 59  近4年Evonik Industries公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況72
圖表 60 2018-2021年國(guó)內(nèi)高純硅烷生產(chǎn)分析75
圖表 61  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況76
圖表 62  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況76
圖表 63  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況76
圖表 64  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況77
圖表 65  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況77
圖表 66  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況78
圖表 67  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況78
圖表 68  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況79
圖表 69  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況79
圖表 70  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況79
圖表 71  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況80
圖表 72  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況80
圖表 73  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況82
圖表 74  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況82
圖表 75  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況83
圖表 76  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況83
圖表 77  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況84
圖表 78  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況84
圖表 79  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況85
圖表 80  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況85
圖表 81  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況86
圖表 82  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況86
圖表 83  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況87
圖表 84  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況87
圖表 85  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況89
圖表 86  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況89
圖表 87  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況90
圖表 88  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況90
圖表 89  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況91
圖表 90  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況91
圖表 91  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況92
圖表 92  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況92
圖表 93  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況93
圖表 94  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況93
圖表 95  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況94
圖表 96  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況94
圖表 97  近4年六九硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況96
圖表 98  近4年六九硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況96
圖表 99  近4年六九硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況97
圖表 100  近4年六九硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況97
圖表 101  近4年六九硅業(yè)有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況98
圖表 102  近4年六九硅業(yè)有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況98
圖表 103  近4年六九硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況99
圖表 104  近4年六九硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況99
圖表 105  近4年六九硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況100
圖表 106  近4年六九硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況100
圖表 107  近4年六九硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況101
圖表 108  近4年六九硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況101
圖表 109  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況102
圖表 110  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況103
圖表 111  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況103
圖表 112  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況103
圖表 113  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況104
圖表 114  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況104
圖表 115  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況105
圖表 116  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況105
圖表 117  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況106
圖表 118  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況106
圖表 119  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況107
圖表 120  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況107
圖表 121  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況109
圖表 122  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況109
圖表 123  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況110
圖表 124  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況110
圖表 125  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況111
圖表 126  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況111
圖表 127  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況112
圖表 128  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況112
圖表 129  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況113
圖表 130  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況113
圖表 131  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況114
圖表 132  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況114
圖表 133  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況116
圖表 134  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況116
圖表 135  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況116
圖表 136  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況117
圖表 137  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況117
圖表 138  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司銷(xiāo)售毛利率變化情況118
圖表 139  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況118
圖表 140  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況119
圖表 141  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況119
圖表 142  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況119
圖表 143  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況120
圖表 144  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況120
圖表 145 TiC涂層的模型123
圖表 146 CVD法的反應(yīng)類(lèi)型和所沉積材料125
圖表 147  CVD采用的加熱方式126
圖表 148 開(kāi)口體系CVD設(shè)備示意圖126
圖表 149 幾種開(kāi)口體系的反應(yīng)器示意圖127
圖表 150 制備ZnSe單晶設(shè)備示意圖128
圖表 151 非晶硅太陽(yáng)能電池結(jié)構(gòu)圖132
圖表 152 非晶硅柔性太陽(yáng)能電池133
圖表 153 大面積集成型疊層太陽(yáng)能電池135
圖表 154 子電池示意圖135
圖表 155 非晶硅太陽(yáng)電池的制備流程136
圖表 156 2021-2026年我國(guó)高純硅烷在電子信息產(chǎn)品中應(yīng)用市場(chǎng)需求量的測(cè)算141
圖表 157 2019-2021年全球半導(dǎo)體材料銷(xiāo)售分析143
圖表 158 2018-2021年全球半導(dǎo)體材料銷(xiāo)售分析145
圖表 159 2018-2021年世界半導(dǎo)體硅片出貨量分析145
圖表 160 2015-2021年我國(guó)集成電路行業(yè)增長(zhǎng)情況146
圖表 161 2021年我國(guó)集成電路出口情況147
圖表 162 2021年集成電路產(chǎn)業(yè)內(nèi)銷(xiāo)產(chǎn)值增長(zhǎng)情況147
圖表 163 2015-2021年我國(guó)集成電路固定資產(chǎn)投資增長(zhǎng)情況148
圖表 164 2021年我國(guó)集成電路行業(yè)經(jīng)濟(jì)效益增長(zhǎng)情況148
圖表 165 2018-2021年我國(guó)集成電路晶圓制造業(yè)發(fā)展規(guī)模分析153
圖表 166 不同薄膜太陽(yáng)能電池研究應(yīng)用水平164
圖表 167 現(xiàn)有各種太陽(yáng)能電池比較171
圖表 168 中國(guó)大陸高世代面板線產(chǎn)能分布184
圖表 169 中國(guó)大陸待投產(chǎn)高世代面板線184
圖表 170 國(guó)家新型顯示產(chǎn)業(yè)政策186
圖表 171 各省市新型顯示產(chǎn)業(yè)政策187

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